JC515-WDG30/WDL/WDM/WDG/WPX/SWDM--單色儀光譜儀詳細介紹
儀器特點 光柵單色儀采用典型的C—T水平對稱光學系統(tǒng),此系統(tǒng)結構簡單、譜線象差變形小,有較高的分辨率;儀器雜散光小,提高了信噪比;波長調節(jié)采用正弦機構,通過精密的螺紋分度,使單色波長達到高準確度、高重復性。其中帶波長掃描的光柵單色儀,配有微機控制器,可以對五種不同規(guī)格的光柵直接顯示掃描波長值。WDG30系列單色儀結構可靠、穩(wěn)定,已有20余年的生產(chǎn)歷史,至今仍受新老用戶的歡迎。 WDM1型系列是WDG30的改型,特點是將改變單色波長的正弦機構與光學系統(tǒng)隔離,以避免機械潤滑油揮發(fā)污染光學件并減少金屬件表面漫反射產(chǎn)生的雜散光。WDM3型光柵單色儀,儀器內(nèi)部的光柵轉臺同時裝有三塊光柵,可以實現(xiàn)寬波段范圍光譜的自動掃描與檢測,是目前國內(nèi)光柵單色儀僅有的設計型式。WDG10型是小型的商品單色儀,焦距100mm,儀器同時有機械計數(shù)器和步進電機驅動及波長校正、限位裝置。WDL30型兼有光譜掃描、波長讀數(shù),并配有光電接收器,微電流放大器,設置有與通用計算機聯(lián)機的接口,是一個功能齊全的光譜測量儀器。
光柵單色儀主要用于物質的定量和定性分析、光源特性、溶液的濃度、光的生物效應和透明物質的光學特性等研究工作。它可廣泛地用于化學、制藥、造紙、建筑、材料、儀器儀表、環(huán)境保護、光學真空鍍膜等方面。 儀器主要技術指標及型號
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JC515-WDG30/WDL/WDM/WDG/WPX/SWDM--單色儀光譜儀詳細介紹
儀器特點
光柵單色儀采用典型的C—T水平對稱光學系統(tǒng),此系統(tǒng)結構簡單、譜線象差變形小,有較高的分辨率;儀器雜散光小,提高了信噪比;波長調節(jié)采用正弦機構,通過精密的螺紋分度,使單色波長達到高準確度、高重復性。其中帶波長掃描的光柵單色儀,配有微機控制器,可以對五種不同規(guī)格的光柵直接顯示掃描波長值。WDG30系列單色儀結構可靠、穩(wěn)定,已有20余年的生產(chǎn)歷史,至今仍受新老用戶的歡迎。
WDM1型系列是WDG30的改型,特點是將改變單色波長的正弦機構與光學系統(tǒng)隔離,以避免機械潤滑油揮發(fā)污染光學件并減少金屬件表面漫反射產(chǎn)生的雜散光。WDM3型光柵單色儀,儀器內(nèi)部的光柵轉臺同時裝有三塊光柵,可以實現(xiàn)寬波段范圍光譜的自動掃描與檢測,是目前國內(nèi)光柵單色儀僅有的設計型式。WDG10型是小型的商品單色儀,焦距100mm,儀器同時有機械計數(shù)器和步進電機驅動及波長校正、限位裝置。WDL30型兼有光譜掃描、波長讀數(shù),并配有光電接收器,微電流放大器,設置有與通用計算機聯(lián)機的接口,是一個功能齊全的光譜測量儀器。
光柵單色儀主要用于物質的定量和定性分析、光源特性、溶液的濃度、光的生物效應和透明物質的光學特性等研究工作。它可廣泛地用于化學、制藥、造紙、建筑、材料、儀器儀表、環(huán)境保護、光學真空鍍膜等方面。
儀器主要技術指標及型號
波長范圍:200nm—20μm
波長準確度:±0.2nm
波長重復性:0.1nm
分 辨 率:0.2nm
雜 散 光:≤1×10-3
手動波長計數(shù)器
配步進電機行程限位
光柵單色儀
配有波長掃描控制器
帶有CR232串行口
配有低壓汞燈光源及聚光鏡導軌
光電倍增管(或硅光電池接收器)
微電流放大器
具有光譜掃描、尋峰功能
可配通用計算機
配步進電機
手動改變波長
配機械計數(shù)器
光柵轉臺同時可配裝三塊不同規(guī)格光柵,具體規(guī)格用戶任選
光柵轉換快速準確方便
(外形尺寸
145×145×110mm)
焦 距:100mm
相對孔徑:1/4
波長準確度:±0.5nm
波長重復性:0.5nm
色 散:8nm/mm(1200l/mm光柵)
狹 縫:固定寬度0.1、0.5、1.0mm
三檔,高度1—8mm
色散相減式
雙單色儀
雜散光為1×10-7(632.8±8nm處)
波長準確度:±0.3nm
波長重復性:0.2nm
可和通用計算機通訊
實現(xiàn)自動掃描、信號采集
色散相加式
儀器譜面長25.4mm(1英吋)
波長范圍:380—780nm
焦 距:200mm
色 散:20nm/mm
相對孔徑:1/4.5