高分子吸波隱身材料研磨分散機，高分子吸波隱身材料生產(chǎn)設(shè)備，高分子高分子吸波材料研磨分散機，高分子高分子吸波材料生產(chǎn)設(shè)備，高分子吸波涂料研磨分散機，高分子吸波涂料生產(chǎn)設(shè)備

高分子是一種二維材料，具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。由于高分子是納米級，具有新的性能。根據(jù)理論推導(dǎo)，高分子會吸收πα≈2.3%的白光（α指精細結(jié)構(gòu)場數(shù)）。目前，高分子作為電磁干擾吸波材料在都處于起步階段。而相關(guān)研究表明，高分子所具備的片貌相對于棒狀狀形或球狀對材料的吸波性更加有利。

高分子吸波隱身材料，高分子高分子吸波材料，高分子吸波涂料，產(chǎn)品達到到意想不到的屏蔽效果。吸波材料，指能吸收投射到它表面的電磁波能量的一類材料。在本產(chǎn)品，除要求吸波材料在較寬頻帶內(nèi)對電磁波具有高的吸收率外，還要求它具有質(zhì)量輕、耐溫、耐濕抗腐蝕等性能。吸波材料性能優(yōu)勢PVA/高分子： 60.1 db （x波段）

吸波材料用途

電磁吸波材料適用于手機、FPC、電腦、IC芯片、LCD/數(shù)
 
碼攝像機主板，PDP/數(shù)碼相機等各種排線。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達14000rpm，是目前國x設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細齒、細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個總線重要因素，高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得細微懸浮液是總線重要的

研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念，將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中，為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，高線速度的吸料式葉輪提供強切割力

更可靠 采用整體式機械密封，總線大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國 x先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細及細濕法粉碎的要求.